半導(dǎo)體行業(yè)
在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中,掩模版是光刻工藝中承載設(shè)計(jì)圖形的關(guān)鍵部件,通過透射光線將微縮圖形轉(zhuǎn)移至光刻膠表面,其性能直接影響光刻質(zhì)量。它將工程師的電路設(shè)計(jì)轉(zhuǎn)化為可復(fù)制的物理圖案,如同建筑師的施工圖,指引光刻機(jī)在硅晶圓上“雕刻”出數(shù)以億計(jì)的晶體管。每一片高精度掩模版都凝聚著巨大的研發(fā)智力,其質(zhì)量直接關(guān)乎最終芯片的效能與良率。因此,我們致力于生產(chǎn)掩模版在取放、轉(zhuǎn)運(yùn)過程保持無污染接觸的各類工具和設(shè)備。




