半導體行業(yè)
在半導體產(chǎn)業(yè)中,掩模版是光刻工藝中承載設(shè)計圖形的關(guān)鍵部件,通過透射光線將微縮圖形轉(zhuǎn)移至光刻膠表面,其性能直接影響光刻質(zhì)量。它將工程師的電路設(shè)計轉(zhuǎn)化為可復制的物理圖案,如同建筑師的施工圖,指引光刻機在硅晶圓上“雕刻”出數(shù)以億計的晶體管。每一片高精度掩模版都凝聚著巨大的研發(fā)智力,其質(zhì)量直接關(guān)乎最終芯片的效能與良率。因此,我們致力于生產(chǎn)掩模版在取放、轉(zhuǎn)運過程保持無污染接觸的各類工具和設(shè)備。




